Materiales de revestimiento de película delgada de óxido de estaño de sputtering meta   Nuestra fábrica de alta calidad de suministro Al2O3, SiO2, Si3N4, SiC, Nb2Ox, TiOx, Ito, AZO sputtering objetivos, así como muchos otros materiales compuestos. Como objetivos de sputtering de cerámica son muy frágiles con muy mala conductividad térmica, por lo que normalmente se pegan con la placa de cobre por el indio  O elastómero, para prolongar el tiempo de servicio. La tecnología de sinterización se utilizan  Para producir los objetivos de sputtering de cerámica, la forma pueden ser redondos y rectángulo. Para el destino de la ronda, el diámetro puede ser de 1" a 14", mientras que el espesor puede ser de 3 mm a 6, 35 mm de tamaño especial, puede ser personalizado. Rectángulo de destino, la construcción monolítica o varios paneles serán suministrados en función del tamaño.           Características Composición química: Óxido de estaño Pureza Disponible: 3N5 La tecnología de producción: Metalurgia de polvos Las formas: Objetivos planar Tamaño disponible: El objetivo de la ronda, el diámetro ≤  14", un rectángulo de destino, según sus necesidades Indio pegado es recomendado para este material Ventajas: Color uniforme, superficie lisa, sin grietas, no hay astillado, sin inclusiones extranjeras y contaminantes. Perfil de la empresa: Desde 2014 Especializada en la pureza de sputtering objetivos. Empresa líder fabricante de materiales de sputtering en China. Calificó el mundo certificados como ISO9001: 2008 y SGS. Amplio en la I+D, fabricación y venta de materiales de película fina. La exportación a más de 15 países de Europa, Sudeste de Asia, América del Sur y zonas, etc...  Nuestros productos                                     Nuestra ventaja 1, muchos años de fabricación y exportación de la experiencia. 2 el estricto y completo systerm QC 3, perfecta después de la venta systerm   El proceso de producción